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'원자층증착장비'에 대한 전략가이드

작성자 나노인

등록일 2015.06.10

조회수 3071

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기술명 원자층증착장비 나노분류 나노장비/기기

원자층증착장비 정의 및 관련자료

 

원자층증착장비 정의

반도체 및 디스플레이 소자 제조 시 원자층 증착(Atomic Layer Deposition, ALD)에 사용되는 장비로, 복잡한 형상의 3차원 구조에서도뛰어난 균일도를 가지는 나노 두께의 박막 증착이 가능하여 나노급 반도체 소자제조의 필수적인 증착 기술 및 장비로 주목받고있음
 

관련 SMK

  • 바이어스를 이용한 막 증착 방법
  • 플라스마 증착 장치 및 방법
  • 탄소 종이 표면에 탄소나노튜브를 직접 성장시키고, 그 탄소나노튜브 표면에 화학기상증착법을 사용하여 백금을 담지시킨 백금나노촉매의 제조방법과 그 백금 나노촉매
  • 반도체 나노소재를 이용한 광전 변환 장치 및 그 제조 방법
  • 유기 반도체/절연성 고분자 블렌드를 이용한 유기 반도체 나노섬유분산체 제조방법 및 이를 이용하여 제조되는 유기박막 트랜지스터
  • 실리콘 나노 점을 이용한 반도체 발광 소자 및 그 제조 방법
  • 나노선 형성방법과 나노선이 형성되어 있는 적층구조물 및 이를 이용한 수직형 반도체 소자와 인터커넥트 적층구조물 제조방법과수직형 반도체 소자와 인터커넥트 적층구조물
  • 반도체 발광소자용 지지기판 및 상기 지지기판을 이용한 고성능 수직구조의 반도체 발광소자
  • 이중 히트 씽크층으로 구성된 지지대를 갖춘 고성능 수직구조의 반도체 발광소자
  • 수직구조를 갖는 반도체 발광소자 제조용 지지기판, 이를 이용한 수직구조를 갖는 반도체 발광소자 제조방법 및 수직구조를 갖는반도체 발광소자
 
 

Summary

 

원자층증착장비 기술적 특징 및 시장동향

  • ALD 원천특허는 특허기간이 만료되어 공개기술로 전환된 상태이며, 이 기술을 바탕으로 1990년대부터 우리나라 기업들이 반도체소자 제조에 ALD를 활용하는 방안에 대한 연구를 시작한 뒤 현재는 로열티를 받고 기술을 수출하는 ALD 장비의 기술선진국으로자리잡고 있음
  • 반도체 소자 제조장비와 공정은 미국이나 일본 등의 선진국에 비해 관련 연구가 늦어 원천기술 보유가 쉽지 않았으나, ALD 공정 및장비는 국내에서 최초로 반도체 소자 제조공정에 적용시키기 위한 연구를 시작하여 현재 상당 수준까지 개발이 진행된 상태임
  • 2000년대 초 특허출원의 약 70% 이상을 내국인이 차지하고 있으며, 우리나라가 기술개발의 종주국 위치를 유지하면서 생산성이증가된장비가 개발되어 나노급 반도체 소자 개발 및 양산 경쟁에서 다른나라의 기업들보다 한발 앞선 모습을 보이고 있음
 

시장규모 및 전망

  • SNS Telecom(2014)에 따르면 ’13년 46억 7,000만 달러이던 원자층 증착장비의 시장은 향후 5년간 평균 1.65%의 꾸준한 성장세를보이며 ’18년 약 50억 6,900만 달러의 시장으로 성장할 것으로 전망됨
  • 전자 및 IT제품수요의 증가로 반도체 업계의 영업이익이 증대되고 있으며, 가트너 그룹에 따르면 세계 반도체 시장은 2011년부터2016년까지 연평균 4.9%의 시장성장률을 보일 것으로 예상함
 

주요 국내업체 동향

  • 국내 원자층증착장비 관련 주요 기업으로는 주성엔지니어링, 원익IPS, 엔씨디, 테라세미콘 등으로 최근 반도체 산업의 공정이복잡해짐에 따라 ALD(Atomic Layer Deposition) 장비 관련 업체의 수혜가 예상되며, 디스플레이, 태양전지, 반도체 등의 개발흐름과함께 맞춤형 R&D가 진행되고 있음
  • 대주전자재료는 전자부품용 소재인 전도성 페이스트, 형광체, 고분자 재료 등으로 중국, 대만, 미국 등에 수출하고 있으며, 에너지사업분야로 사업분야확대를 위해 노력중임
  • 이에 따라, 관련 업체들은 미세화되는 차세대 반도체 소자의 특성 손상 및 저하 문제를 극복하고 저온에서 최고의 막질을 형성할수 있는 ALD 장비 개발에 주력하고 있음
  • ’14년 국내 연구팀은 ALD 방법을 활용, 1㎛급 미세회로 패턴 밀도를 200배 이상 증가시켜 반도체의 용량을 획기적으로 증가시킬수 있는  ‘5nm급 반도체 초미세회로 패턴 제작기술’을 개발하여 불가능이라 여겨졌던 미세 반도체 제작을 가능케 함
 

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